નાઇટ્રોજન ટ્રાઇફ્લોરાઇડ (NF3) ઉચ્ચ શુદ્ધતા ગેસ
મૂળભૂત માહિતી
| CAS | 7783-54-2 |
| EC | 232-007-1 |
| UN | 2451 |
આ સામગ્રી શું છે?
નાઇટ્રોજન ટ્રાઇફ્લોરાઇડ (NF3) એ ઓરડાના તાપમાને અને વાતાવરણીય દબાણ પર રંગહીન અને ગંધહીન ગેસ છે. તે મધ્યમ દબાણ હેઠળ લિક્વિફાઇડ કરી શકાય છે. NF3 સામાન્ય સ્થિતિમાં સ્થિર છે અને તે સરળતાથી વિઘટિત થતું નથી. જો કે, ઊંચા તાપમાને અથવા અમુક ઉત્પ્રેરકોની હાજરીમાં તે વિઘટિત થઈ શકે છે. જ્યારે વાતાવરણમાં છોડવામાં આવે ત્યારે NF3 ઉચ્ચ ગ્લોબલ વોર્મિંગ સંભવિત (GWP) ધરાવે છે.
આ સામગ્રીનો ઉપયોગ ક્યાં કરવો?
ઇલેક્ટ્રોનિક્સ ઉદ્યોગમાં ક્લિનિંગ એજન્ટ: NF3 નો ઉપયોગ સેમિકન્ડક્ટર્સની સપાટીઓ, પ્લાઝમા ડિસ્પ્લે પેનલ્સ (PDPs) અને અન્ય ઇલેક્ટ્રોનિક ઘટકોમાંથી અવશેષ દૂષકો, જેમ કે ઓક્સાઇડ્સ દૂર કરવા માટે સફાઈ એજન્ટ તરીકે વ્યાપકપણે થાય છે. તે આ સપાટીઓને નુકસાન પહોંચાડ્યા વિના અસરકારક રીતે સાફ કરી શકે છે.
સેમિકન્ડક્ટર ફેબ્રિકેશનમાં એચિંગ ગેસ: NF3 નો ઉપયોગ સેમિકન્ડક્ટરની ઉત્પાદન પ્રક્રિયામાં એચિંગ ગેસ તરીકે થાય છે. તે ખાસ કરીને સિલિકોન ડાયોક્સાઇડ (SiO2) અને સિલિકોન નાઇટ્રાઇડ (Si3N4) એચીંગમાં અસરકારક છે, જે સંકલિત સર્કિટના નિર્માણમાં વપરાતી સામાન્ય સામગ્રી છે.
ઉચ્ચ-શુદ્ધતાવાળા ફ્લોરિન સંયોજનોનું ઉત્પાદન: NF3 એ વિવિધ ફ્લોરિન ધરાવતા સંયોજનોના ઉત્પાદન માટે ફ્લોરિનનો મૂલ્યવાન સ્ત્રોત છે. તેનો ઉપયોગ ફ્લોરોપોલિમર્સ, ફ્લોરોકાર્બન અને વિશિષ્ટ રસાયણોના ઉત્પાદનમાં પુરોગામી તરીકે થાય છે.
ફ્લેટ પેનલ ડિસ્પ્લે મેન્યુફેક્ચરિંગમાં પ્લાઝ્મા જનરેશન: ફ્લેટ પેનલ ડિસ્પ્લેના ઉત્પાદનમાં પ્લાઝમા બનાવવા માટે NF3 નો ઉપયોગ અન્ય ગેસ સાથે થાય છે, જેમ કે લિક્વિડ ક્રિસ્ટલ ડિસ્પ્લે (LCDs) અને PDP. પેનલ ફેબ્રિકેશન દરમિયાન ડિપોઝિશન અને ઇચિંગ પ્રક્રિયાઓમાં પ્લાઝ્મા આવશ્યક છે.
નોંધ કરો કે આ સામગ્રી/ઉત્પાદનના ઉપયોગ માટે વિશિષ્ટ એપ્લિકેશનો અને નિયમો દેશ, ઉદ્યોગ અને હેતુ પ્રમાણે બદલાઈ શકે છે. કોઈપણ એપ્લિકેશનમાં આ સામગ્રી/ઉત્પાદનનો ઉપયોગ કરતા પહેલા હંમેશા સલામતી માર્ગદર્શિકા અનુસરો અને નિષ્ણાતની સલાહ લો.
